什么是PECVD系統(tǒng)？
PECVD系統(tǒng)由管式爐,石英真空管、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。 PECVD 系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復(fù)合薄膜,石墨烯等生長(zhǎng)。 洛陽(yáng)西格馬可生產(chǎn)1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD、1200度實(shí)驗(yàn)用雙溫區(qū)管式爐小型PECVD、低真空CVD系統(tǒng)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
PECVD系統(tǒng)與CVD有什么區(qū)別？
氣相沉積法化學(xué)氣相沉積(CVD)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用設(shè)計(jì)為廣泛的用來(lái)沉積多種材 料的技術(shù)， 包括大范 圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
CVD 技術(shù)常常通過(guò)反應(yīng)類型或者壓力來(lái)分類，包括低壓 CVD(LPCVD)，常壓 CVD(APCVD)，亞常壓 CVD(SACVD)，超高真空 CVD(UHCVD)，等離子體增強(qiáng) CVD(PECVD)，高密度等離子體 CVD(HDPCVD) 以及快熱 CVD(RTCVD)。
PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD).
PVD和熱錨點(diǎn)CVD相比，PECVD可以在相對(duì)較低的溫度（小于350℃）下沉積出高均勻性薄膜。此外，對(duì)于SiO2, SiNx, a-Si, SiON 和 DLC等材料的沉積，等離子沉積技術(shù)提供了秀的薄膜性能控制（折射率、硬度等）。
1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD系統(tǒng)用途
1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD系統(tǒng)系統(tǒng)配置；
1、1200度開(kāi)啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐
2、等離子射頻電源
3、多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4、真空系統(tǒng)（單購(gòu)買(mǎi)）
1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD系統(tǒng)特性：
可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)滑動(dòng)或自動(dòng)滑動(dòng)、氣路數(shù)量2-5可選擇；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長(zhǎng)；整管可調(diào)；精致小巧，性價(jià)比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，陶瓷薄膜，金屬薄膜，復(fù)合薄膜等的不錯(cuò)的選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
1200度實(shí)驗(yàn)用小型PECVD系統(tǒng)主要參數(shù)：
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系統(tǒng)名稱
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SGM?集成型PECVD系統(tǒng)
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SGM 1200℃小型PECVD系統(tǒng)
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系統(tǒng)型號(hào)
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SGM PECVD/12IH-500A
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SGM PECVD/12IH-4Z/G
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控制方式
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液晶屏微PLC控制系統(tǒng)
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手動(dòng)
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額定溫度
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1200℃（可選1300℃、1400℃、1700℃等）
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加熱區(qū)長(zhǎng)度
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200mm（可按需定制）
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恒溫區(qū)長(zhǎng)度
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100mm（可按需定制
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溫區(qū)
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單溫區(qū)(可生產(chǎn)雙溫區(qū)、三溫區(qū))
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爐管材質(zhì)
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石英管 |
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石英管管徑
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Φ60mm
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Φ50mm
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額定功率
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1.2Kw
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2Kw
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額定電壓
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220V
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滑動(dòng)方式及距離
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自動(dòng)滑動(dòng);200mm
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手動(dòng)滑動(dòng);200mm
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溫度控制
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30段程序控溫
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50段程序控溫
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控制精度
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±1℃
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爐管工作溫度
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＜1200℃
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氣路法蘭
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采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接
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排風(fēng)冷卻裝置
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先進(jìn)的空氣隔熱技術(shù)，結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù)，當(dāng)爐體表面溫升到50℃時(shí)，
排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng)，使?fàn)t體表面快速降溫。
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氣體控制方式
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質(zhì)量流量計(jì)（按鍵式）
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氣路數(shù)量
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2路（2-4路）
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4路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量）
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流量范圍
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0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分，可選配）氮?dú)鈽?biāo)定
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精度
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±1%F.S
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響應(yīng)時(shí)間
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1sec
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工作溫度
（流量計(jì)）
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20/120℃
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工作壓力
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進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
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進(jìn)氣方式
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采用防倒流設(shè)計(jì)
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規(guī)格
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中真空（集成型請(qǐng)單購(gòu)買(mǎi)）
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系統(tǒng)真空范圍
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10Pa/100Pa
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真空泵
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雙級(jí)機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過(guò)濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw
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信號(hào)頻率
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13.56MHz±0.005%
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功率輸出范圍
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0W-500W
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0W/100W
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反射功率
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350W
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30W
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射頻輸出接口
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50Ω，N-type,temale
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功率穩(wěn)定度
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±0.1%
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諧波分量
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≤-50dbc
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供電電壓
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單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ
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整機(jī)功率
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≥70%
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屏幕顯示
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正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值
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爐體外形尺寸
（僅參考）
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290×360×350mm
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290×350×490mm
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系統(tǒng)外形尺寸
（僅參考）
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420×1440×1100mm
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530×2310×750mm
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系統(tǒng)總重量
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大約276Kg
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