PECVD系統(tǒng)
高真空PECVD系統(tǒng)是由管式爐,真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復(fù)合薄膜,石墨烯等生長(zhǎng)。PECVD系統(tǒng)增加功能容易,可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能,PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。
高真空PECVD系統(tǒng)能在石英管式爐內(nèi)完成CVD乃至PECVD生長(zhǎng),又能直接將產(chǎn)成的晶體樣品送入STM等分析裝置進(jìn)行測(cè)量,大幅提升樣品品質(zhì),有效地提高了科研能力。


















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